一、展会热度炸裂：万人围观，却“无光刻机”

10月 15 日，湾区半导体产业生态博览会（湾芯展）在深圳正式拉开帷幕。新凯来的展位几乎从一开馆就被围得水泄不通，成为全场当之无愧的“人气王”。

然而有意思的是，到现场的人们心心念念的“国产光刻机”，却始终没能在展台亮相——无论是实物还是模型，都未曾正式公布。

甚至展位工作人员也明确回应：“我们这次没有发布 DUV 光刻机。”

说得更直白一点：这场展会，新凯来“装”下了很多重磅气场，但硬件最核心的那块——光刻机——却刻意留白。

二、光刻机空缺的背后：神秘与野心共舞

1. 为什么“没光刻机”反而可能是更强信号？

在半导体产业链里，光刻机一直是最敏感、最核心、最难突破的技术之一。即便连国际巨头也都小心翼翼，不敢轻易过度暴露核心路线。新凯来在此次深圳展会声势空前，但对光刻机保持沉默，恰恰可能是有意为之：

保密策略：在还未完全稳定、验证或量产之前，过早亮相容易被竞争对手揣摩、粉碎。

“惊喜”预留：把“重磅炸弹”留给后续发布，本身就是一种营销张力。

验证链条完整性：展出其他工艺设备，搭建产业信任基础，让外界相信“新凯来有能力造光刻机”是合理的。

2. 新凯来的底气在哪？

虽然光刻机尚未实质亮相，但新凯来在产业链里的动作与布局已经足够吸引眼球：

在此前的 SEMICON China 展会上，新凯来一口气发布 30 多款设备，覆盖扩散、刻蚀、薄膜沉积、量测等多个工艺环节。

市场传闻其在 DUV 光刻系统组件、有关键子模块方面已有布局或专利储备。

在资本层面，新凯来已披露其工业（除光刻机）业务预计 2025 年收入约 45 亿元，并有望在 2027 年实现盈利 20 亿元。

其在手订单据称已突破 100 亿元人民币级别，正在牵动上游供应链扩产。

换言之：新凯来在“爆雷式亮相 + 深度布局”之间做了一个很微妙但极具野心的平衡。

三、关键问题：新凯来到底有光刻机吗？能成几何？

有“光刻机”但藏得极深？

坊间流传，新凯来将光刻机业务置于其子公司之下，部分技术路径和样机正在秘密研发中。

也有报道指出，在公开发布的 30 多款设备中，并未出现浸润式 DUV 或 EUV 光刻机。

此外，新凯来面临的技术难度并非空穴来风。EUV 光刻机是一种极其复杂的系统，涉及极紫外光源、光学系统、多层膜反射镜、高精度对准与套刻、真空系统、稳定环境控制等诸多高精尖技术。

所以即便新凯来声称在 28nm 级别已有突破，这也可能只是“路线图”级别的宣言，而非成熟量产品。